< 所有产品分类
金相显微镜
VIA-MC-UVW纹痕分析对比系统
- 产地：中国
- 上架时间：12-06-14 09:02
- 产品描述
- 技术参数
- 技术文档
- 相关产品
- 如何购买
产品描述：
VIA-MC-UVW纹痕分析对比系统
系统配置了高清晰度的专业摄像头和专业的纹痕分析对比软件,连接电脑，可对显微图像进行对比、测量、鉴别。
纹痕分析对比软件UV－W是一套图像处理及测量的应用软件包，主要通过对显微图像的处理及测量来鉴别纹痕。广泛用于公、检、法等部门。
产品配置：
1、三目体视显微镜PXSVIA-E
2、高级接口MCL
3、JVC摄像头C921EC 分辨率540线
4、图像采集卡V110
5、纹痕分析对比软件UV-W（详见下载中心）
6、联想商用电脑、激光打印机
技术参数：
1、三目镜筒：倾斜45°可旋转360°瞳距55-75mm 视度±5°
2、广角目镜： 10X/23 mm
3、物镜：0.65X-6X，变倍比：1:9.2
4、总放大倍数：60X
5、调焦：粗动立座式，升降范围90mm
6、工作距离：100mm
7、光源：卤素灯 上下光源可调 12/20W
2、广角目镜： 10X/23 mm
3、物镜：0.65X-6X，变倍比：1:9.2
4、总放大倍数：60X
5、调焦：粗动立座式，升降范围90mm
6、工作距离：100mm
7、光源：卤素灯 上下光源可调 12/20W
选购件：
2X物镜 500元
20X目镜 500元
二维工作台 1000元
偏振片 1200元
环形光源 240元
LED光源（亮度可调） 800元