EVO® 18，具有处理所有类型 材料能力的分析显微镜为您 提供卓越的成像质量。
标配能谱仪（EDS）和波谱仪（WDS）接口，领先的 X 射线几何条件对所 有样品提供了最精确的分析。对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。可选择 LaB6 高亮度光源，在与 X 射线分析相适应的探针 电流的性能上提高到一个新的水平。在 8.5 mm 的分析工作距离，EVO® 18 能够处理的 样品可达 250 mm 直径和 145mm 高。此外，共面的设计为 EBSD 与 EDS 的联合使用提 供了理想的几何条件。无论何时对于你的材料分析的挑战，EVO® 18 都能使你的 样品清晰可见。

● 配备 X 射线能谱仪并具有领先的 X 射线分析几何条件
● 使用可变压力工作模式进行 样品的电荷中和
● 大的样品台移动范围
● 电子束衬管用于增强成像与 分析
● 用可选的 LaB6 电子源进行高性能成像

EVO® 18-圆满的材料分析解决方案
全球解决方案提供商卡尔•蔡司的纳米技术系统部采用最尖端的 电子显微镜技术为用户提供全面的解决方 案。公司广阔的专业技术，在电子束技术领域中进行了超过 60 年的一丝不苟的努力， 对市场已经产生了很多开拓性的创新。我们 的全球应用与服务网络保证对用户的需求提供快速、可靠与高质量的技术支持。与专 有的升级战略相结合，这将保护你的投资用 于它的整个寿命。这个核心技术嵌入我们新 研发的产品中，使我们能够提供为我们用户的事业增值的解决方案。

技术参数：

成像方案:  导体 非导体 气体析出样品

分辨率:   3.0 nm @ 30 kV (SE 与 W)
                2.0 nm @ 30 kV (SE 带有 )
                4.5 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)

加速电压：0.2 - 30 kV

放大倍数:  5 - 1,000,000 x

视野:          6 mm 在分析工作距离(AWD)

X 射线分析:  8.5 mm AWD，35°出射角

OptiBeam®*模式:  分辨率、景深、分析、大视野

压力范围:  10 - 400 Pa 用空气或可选的水蒸汽

可选探测器:  ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半导体二极管探测器 
                       VPSE - 可变压力二次电子探测器
                       SCD - 样品电流探测器

样品室尺寸:  365 mm (Φ) x 255 mm (h)

5 轴电动计算机对中样品台:  X = 125 mm
                                                  Y = 125 mm
                                                  Z = 50 mm (35 mm 电动)
                                                  最大样品高度 120 mm
                                                  T = 0 - 90°
                                                  R = 360°(连续)
                                                  样品台由鼠标、操纵杆和控制板控制

未来保证升级途径:  电子束衬管 
                                   扩展压力
                                   水蒸汽 VP 气体

图像处理:  分辨率可达 3072 x 2304 像素 用叠加和平均方式进行信号采集

图像显示:  高对比度彩色平板 TFT 显示器用于以 1024 x 768 像素显示 SEM 图像

系统控制:  用鼠标和键盘操作的 SmartSEM™** GUI多语言简明的 GUI Windows® XP 操作系统

实用要求:  100 – 230 V, 50 或 60Hz 单相 不需要水冷

OptiBeam®* — 以主动式镜筒控制实现最高分辨率、最大视野或者最佳景深